第197章 涌向CK的暗流(2 / 6)

模拟结果显示,这会导致整体良品率下降约5%。

光学系统:

核心是得国蔡斯(zeiss)的euv反射镜,其表面粗糙度控制在惊人的0.1nm以内。

如果启用备用方案,即霓虹尼糠(nikan)和佳(conon)的组合,他们的镀膜工艺目前难以达到同等水平,可能会引入更高的缺陷密度。

估算下来,反射镜缺陷率若从蔡斯的0.001个/平方厘米上升到0.03个/平方厘米,良品率将下降10%。

对准系统:目前我们采用的是来自种的橙科(ck)的对准子系统。

它的静态精度达到了0.000018°/h,动态群体校正算法能有效补偿振动,定位误差控制在亚纳米级。

如果换回我们之前使用的得国蔡斯方案,其动态误差控制略逊,可能导致套刻误差增加,良品率预计下降5%。”

提到“种的ck”时,闫涛南的语气微微一顿,一丝极其复杂的情绪在他眼中一闪而过。

那是一种夹杂着对同胞技术崛起的微妙自豪感,与对两岸未知竞争格局潜藏的不安。

温尼克认真地听着,手指无意识地轻敲着桌面。

“我明白了!我们阿斯唛能成为全球光刻机的领导者,正是因为我们汇聚并整合了全球最顶尖的技术。

自己搞全产业链的霓虹和北美对手,反而被我们甩在了身后。”

温尼克脸上重新露出笑容,用力拍了拍闫涛南的肩膀。

“闫,你的工作无比出色,董事会已经批准,正式任命你为阿斯唛全球副总裁,全面负责euv后续的迭代和商业化量产!这是你应得的!”

“非常感谢您的信任,温尼克先生!”闫涛南激动地与总裁握手。

离开euv实验室的喧嚣,温尼克又来到了隔壁的duv光刻机研发中心。

这里的气氛相对沉稳,技术更加成熟。

他找到了负责duv的副总裁兼首席技术官马丁。

“马丁,我们新一代的nxe:3300b duv光刻机(用于7nm及以上制程),换装了新的子系统后,效果如何?”

马丁脸上洋溢着自信的笑容。

“非常好,温尼克!

原本我们的新一代duv光刻机的良品率基准在50%。

换装北美cymer的新光源后,提升了10%。

采用

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