用力按在纸上，就在纸上留下了清晰的图案。
纳米压印光刻技术的原理与此极其相似，但其精细程度达到了纳米级别。
制作模板、涂覆抗蚀剂、压印然后是固化和脱模，整个过程像盖章一样，用一个1：1大小的、
带有电路图案的模板，直接接触并按压在晶圆的树脂上，进行物理复制。
由于不需要高功率光源，其能耗相比euv大幅降低，佳能自己声称可以减少90%。
而且结构要比传统的、asml的光刻机简化得多，它的设备成本仅仅只是asml光刻机的四分之一甚至更低。
同样，有优势就会有劣势。
首先它是5nm没错，但因为它是新生产物，目前根本就无法用于制造cpu、gpu这种结构最复杂、对缺陷率最敏感的逻辑晶片。
它现在只能被应用于3dnand快闪记忆体晶片的制造。
因为快闪记忆体晶片的电路图案具有高度的重复性和规整性，对缺陷的容忍度相对较高。
sk海力士就是佳能在生产端的合作伙伴。
也就意味着，这样的5nm光刻机技术，不会对我们的人工智慧战略造成威胁。
其次他们只能用来造3d快闪记忆体晶片，即便他们成功了，被影响的是高丽的存储晶片产业，我们的cpu、gpu业务都不会受到影响。
最后华国方面即便拿到了这项技术，首先材料上要受到我们的限制，无论是特殊的树脂材料还是说抗蚀剂又或者是坚硬耐磨、又能保持极高精度的模板，这些都要受到我们的限制。
但这项技术又确确实实是5nm的晶片技术，也具备利用该光刻技术制造cpu、gpu这类逻辑晶片的潜力，佳能方面甚至已经绘制了清晰的、通往2nm甚至更先进节点的技术路线图。
它的价值毋庸置疑，它的限制同样毋庸置疑。
潜能永远是潜能，佳能从2023年交付验证机，到今天都没有正式批量生产，它的潜能永远停留在纸面上，变成我们给华国设置的陷阱。
让他们把精力、金钱和资源全部都投入到这样的无底洞里去。」
纳瓦罗最后总结道：「这是我精挑细选，为华国特意选定的技术陷阱！
用一项没有实际意义的技术，换我们需要的时间，换月球上的大t月球基地！
而且我们只给了一半，只给了nil光刻技术，配套的材料可没有给，配套材料照样要