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第558章 大飞机改造,二战光刻机,阿全的老(3 / 6)

图中,有大量隐含数据没有记录,只是个粗略图纸,方文必须将原图进行重新标注,才能让其和自己的改造图匹配。

随即,在接下来一天时间里,他都在对法莱芒的原图纸进行各种隐藏参数和部件的标注,将整个图纸上写的密密麻麻。

有了他的标注后,泰山的工程师们在以后工作中就有了更好的指导数据。

方文叮嘱他们细心干,不要怕时间不够,要以慢工出细活的精神将这架大飞机改造好。

大飞机改造的事情安排好了,方文又回到泰山研究院。

他需要将自己对科技研究的想法写出来,让研究院的研究人员们能顺着自己的思路进行研发。

主要就是半导体集成芯片构思。

目前泰山半导体收音机采用了集成电路板,让收音机的体积比电子管收音机小了很多,实现了便携方式。

但这远远不够。

想要将集成电路微型化,需要一个突破性的技术。

那就是现在还在造飞机的仙童公司于五十年代末在半导体技术上的突破。

那种技术叫做平面工艺,在硅片表面制造金属互连线路,从而实现平面电路集成。

那样的技术,比现有的半导体集成电路板更好,但想要实现,必须得拥有另一项技术:光刻。

这就是以后大名鼎鼎的光刻机技术前身,当然在那个年代,并没有那么先进。

方文正好知道这种早期光刻技术的原理,随即,在纸上写了出来。

【光刻技术的灵感源于印刷术,但通过光化学反应实现了微米级精度的图形转移,从而在硅材料上制作出电路。】

【其原理有三大重点:】

【光致抗蚀效应:利用光刻胶在特定波长光照下发生的化学变化(交联和分解),将掩模图案“复印”到硅片表面。】

【选择性蚀刻:通过化学溶液去除未被光刻胶保护的区域,形成半导体器件所需的 pn结、金属互连等结构。】

【扩散掺杂:在光刻形成的窗口中注入杂质(如硼、磷),精准控制半导体的导电类型与性能。】

所以,光刻胶才是这个技术的核心,其他都是现有条件下可以实现的。

那光刻胶怎么来呢?

这东西,恰恰是方文知道的。

他在第二张纸上写下。

【光刻胶:聚乙烯醇肉桂酸酯】

【成分:聚乙烯醇pva(作为高分子骨

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